EUV

超高速露光技術 超高速露光技術とは、半導体製造や微細加工の現場で極めて短い時間でレジストを露光し、高精度のパターン形成を実現するための技術である。従来のフォトリソグラフィ工程では、露光速度と解像度のバランスに制約があったが、近年の光源・光...

露光装置の種類 半導体製造工程で欠かせない技術の一つにフォトリソグラフィがある。フォトリソグラフィではシリコンウェハ上のフォトレジスト層にパターンを転写するが、その転写を実行する際に用いられるのが露光装置である。これらの装置は微細な回...

露光装置 露光装置は半導体の製造工程でフォトリソグラフィを行う要となる装置である。シリコンウエハ上に感光材料を塗布し、光学系を用いてパターンを転写することで微細な回路を形成する。半導体集積回路の高性能化が進むほど、この露光プロセスの精...

リソグラフィ リソグラフィは半導体などの微細加工工程で使われる転写技術であり、フォトマスクを通して照射される光のパターンを感光材料上に形成する方法である。集積回路のライン幅を微縮化するために光源、レンズ系、レジスト材料など多彩な要素技術が...

マスク基板（石英） マスク基板（石英）は、半導体のフォトリソグラフィー工程などで使用されるフォトマスクを構成する基板材料として広く採用されている。高い透明度と優れた熱的・化学的安定性を備えた石英ガラスが用いられ、極端紫外線(EUV)リ...