真空

工学

プラズマガス|電離したガスを制御し高密度エネルギー

プラズマガス プラズマガスとは、気体に外部エネルギーを加えて電離させた結果、イオンと電子が混在する高エネルギー状態のガスである。通常の気体とは異なり、電気的に導電性をもち、磁場や電場の影響を強く受けるという特徴がある。産業界では溶接や...
工学

冷陰極ゲージ|真空測定に使われる高耐久な圧力計

冷陰極ゲージ 冷陰極ゲージとは、真空計測のために気体分子を電離し、その電流から圧力を導き出す計測器である。高電圧を利用して電子を放出し、磁場や電界中でその電子が気体分子と衝突を繰り返すことで効率的にイオン化を促進する仕組みが特徴であり...
工学

ピラニゲージ|熱伝導を利用した真空圧力計

ピラニゲージ ピラニゲージとは、熱伝導を利用して真空度(圧力)を測定する装置である。低真空から中真空領域まで広く対応し、シンプルな構造と安定した計測が特徴である。半導体製造装置や研究施設など、真空を扱う多様な現場で活用されており、他の方式...
工学

真空シール|気体を遮断する技術の基礎と応用

真空シール 真空シールとは、外部と内部の圧力差を維持するために開口部を気密に閉じる技術である。真空状態を必要とする装置では、微細な隙間からでも気体が入り込めば性能が大きく損なわれるため、高度な封止性能が求められる。このような厳密な気体...
工学

チャンバ|高精度な反応空間を提供する装置

チャンバ チャンバは真空環境や特定のガス雰囲気を作り出し、内部で物理的または化学的な処理を行うための容器である。半導体の製造工程や材料の表面処理など、多種多様な分野で利用されており、高度な反応制御を可能にする重要な装置として位置づけら...
工学

ウェハプロセス|半導体チップの基盤を形成する微細加工工程

ウェハプロセス ウェハプロセスは、半導体チップを製造するうえで最も基本となるプロセスフローのことである。シリコン結晶から生成されるウェーハを母材とし、その表面に微細構造を作り込む一連の工程を総称しており、リソグラフィやエッチング、ドーピン...
工学

イオンビーム|高エネルギー粒子で材料を精密加工

イオンビーム 半導体や材料科学の分野で利用される高エネルギー粒子を照射する技術がイオンビームである。加速されたイオンを物質に衝突させることで、表面構造の改質や元素の注入などを極めて精密に行うことが可能とされる。IC製造や薄膜形成など多彩な...
工学

ISS|表面組成や原子配列を評価する

ISS ISS(Ion Scattering Spectroscopy)とは、低エネルギーイオンを試料表面に照射し、反射されたイオンのエネルギー分布や散乱角度を解析することで表面組成や原子配列を評価する分析手法である。半導体プロセスや...
工学

EUV(Extreme Ultraviolet)|微細化の要となる極紫外線リソグラフィ

EUV(Extreme Ultraviolet) 半導体の微細化技術は波長の短い光源を使用したフォトリソグラフィによって進展してきた。193nm帯のArFエキシマレーザーを利用する露光が長らく主力であったが、さらなる高集積化を実現する...
工学

真空炉|真空中での高温熱処理を可能にする高度な加工装置

真空炉 真空炉は、炉内部を大気圧よりも低い真空状態にし、高温で材料を加熱・処理するための装置である。空気中の酸素や水分を排除することで、酸化や不要な化学反応を抑えながら焼結・溶解・アニーリングなどの工程を実施できる点が大きな特徴となる...
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