真空ポンプ

排気速度 排気速度とは、真空ポンプやエジェクタなどが装置内部や配管から気体を排出する能力を示す指標である。多くの場合、1分間または1時間あたりに排出できる容積（L/minやm³/hなど）で表され、真空工程やプロセス設計において極めて重要な...

真空用レギュレータ 真空用レギュレータとは、真空システムにおいて陰圧を安定に制御するために用いられる調整弁である。真空ポンプの吸引力をそのまま使うと、常に最大の吸引状態が続いてしまい、扱うワークや機器を損傷する可能性がある。そこで、真空用...

真空用フィルタとは 真空用フィルタとは、真空ポンプやエジェクタ、真空発生器などによって作り出された負圧系統の配管内を通過する空気やガスから、微粒子やダストなどの不純物を除去する装置である。真空ラインでは微細な汚れや油分、粉塵などが混入...

真空用圧力計 真空技術を用いた生産ラインや研究設備では、気圧を厳密に管理することが不可欠である。そこで活躍するのが真空用圧力計であり、真空チャンバー内の圧力を数値化し、運転条件や安全性を確保するための重要な情報源となる。真空度が高くなるほ...

真空発生器総合タイプ 真空発生器総合タイプは、真空工程で必要となる吸着、搬送、真空破壊など複数の機能をひとつのユニットで統合する装置である。一般的な真空ポンプやエジェクタによる負圧生成に加え、真空調整弁やセンサ類を組み込み、真空圧の制御や...

吸着プレート 吸着プレートとは、真空や静電気などの吸着力を利用してワークや部品を固定するための平板状の治具である。ロボットアームや自動搬送装置などの先端部分に取り付けられ、対象物を傷つけず安定して保持できる特徴をもつ。主に真空ポンプを用い...

真空到達時間 真空到達時間とは、大気圧状態にあるチャンバーや配管などの容器内部を所定の真空度まで引き下げる際に要する時間を指す。通常は真空ポンプを用いて容器内の分子を排出し、圧力を低減させるが、その速度は装置の排気能力や容器の体積、ま...

真空発生用バルブ 産業界において真空発生用バルブは、真空ポンプや配管システムと連動し、高度な真空環境を得るために重要な役割を担う。真空は半導体製造や食品包装、化学反応容器などで幅広く利用されるが、その生成と維持には複雑な機構が求められる。...

真空破壊圧力 真空破壊圧力とは、容器内を真空状態に保っている際に何らかの原因で大気との圧力差が瞬時に縮まり、真空が破れて内部が外部と同等の圧力に戻る際に注目される圧力のことである。たとえば真空チャンバーや各種真空装置を使用している環境...

吸込流量－真空圧力特性 真空ポンプや真空システムを設計・運用する際に重要視される指標の一つが吸込流量－真空圧力特性である。これはポンプが特定の真空圧力を維持しながら、どの程度の吸込み量を確保できるかを示すものであり、装置の処理能力や生産ラ...