工学 CD-SEM（臨界寸法計測SEM）｜先端微細寸法の要を担う計測技術
CD-SEM（臨界寸法計測SEM）
半導体の微細加工技術が進展するにつれ、ナノメートルオーダーの線幅やスペースを正確に計測する必要性が高まっている。その要となるのがCD-SEM(臨界寸法計測SEM)である。CDは“Critical Dim...
歩留まり
工学 工学 歩留まり｜投入と産出の効率を高める
歩留まり
歩留まりとは、製造業や農業をはじめとしたさまざまな分野で、投入された原材料や部品などに対して最終的に得られる製品や成果物の割合を示す指標である。たとえば製造業では、原材料からどれだけ歩留まり良く製品を作れるかが企業の収益性や...
工学 ワード線｜メモリセルアクセスを司る行方向の制御線
ワード線
半導体メモリの内部構造を俯瞰するとき、最も重要な役割を担う要素の一つがワード線である。これはDRAMやSRAMなどのメモリセルアレイにおいて、縦横に配置された配線のうち、行方向を担当する線を指す。メモリセルのトランジスタゲートを...
工学 ロット｜製造や流通の基準単位として生産管理を効率化する
ロット
ロットとは、製造業や流通業などにおいて、製品や部材を一括で扱うための最小単位のことである。同一条件下で生産された製品群をまとめて管理し、歩留まりや不良率、品質のトレーサビリティなどを効率的に把握する狙いがある。特に半導体製造で...
工学 ウェハ｜半導体デバイスの土台となる円盤状の基板
ウェハ
ウェハとは、半導体デバイスの基板となる円盤状の薄い材料で、主にシリコン結晶をスライス・研磨して作られる。ICやトランジスタ、イメージセンサー、メモリなど多くの電子部品は、このウェハの表面に微細な回路や素子を形成することで製造さ...
工学 レベンソン型位相シフトマスク｜位相差で露光解像度を高める
レベンソン型位相シフトマスク
レベンソン型位相シフトマスクは、フォトリソグラフィ工程において光の位相を巧みに制御することで微細パターンの解像度を高めるために考案されたマスク技術である。従来のマスクに比べて大幅に線幅を縮められるうえ、ライン...
工学 レティクル｜半導体リソグラフィで回路パターンを投影する原版
レティクル
半導体の微細パターンをウェハ上に転写する工程で中核的な役割を果たすのがレティクルである。これはフォトリソグラフィにおけるマスクの一種であり、回路パターンを高精度に形成したガラス基板を指す。露光装置内に装着され、光源からの光を通...
工学 モノリシックIC｜単一基板で高機能を実装する半導体技術
モノリシックIC
モノリシックICは、単一の半導体基板上にトランジスタやダイオード、抵抗、配線などの素子を一体化して形成した集積回路である。従来のディスクリート素子を組み合わせた回路とは異なり、半導体プロセスを用いてウェハ上に多数の素子を...
工学 半導体製造における前工程｜ウェハを高度に加工し素子構造を形成する製造初期段階
半導体製造における前工程
半導体製造における前工程は、シリコンウェハの作成からフォトリソグラフィ、ドーピング、薄膜形成、エッチングなどを行い、半導体素子としての基盤を整える一連のプロセスである。チップの性能や歩留まりを左右する重要な工...
工学 マイクロマシン｜微細構造がもたらす新たな可能性
マイクロマシン
マイクロマシンとは、半導体微細加工技術を応用し、ナノメートルからマイクロメートルスケールの構造を組み込んだ小型機械デバイスの総称である。センサやアクチュエータを微小なチップ上に集積し、従来の装置では成し得ない高精度な制御や...