工学 マスクレスリソグラフィ｜高精度直接描画で設計自由度を向上
マスクレスリソグラフィ
マスクレスリソグラフィとは、従来のフォトリソグラフィ工程で使用するフォトマスクを必要とせず、直接描画方式で微細パターンを形成する技術である。半導体やMEMS(Micro Electro Mechanical Sys...
微細化
工学 工学 CD-SEM（臨界寸法計測SEM）｜先端微細寸法の要を担う計測技術
CD-SEM（臨界寸法計測SEM）
半導体の微細加工技術が進展するにつれ、ナノメートルオーダーの線幅やスペースを正確に計測する必要性が高まっている。その要となるのがCD-SEM(臨界寸法計測SEM)である。CDは“Critical Dim...
工学 ArF液浸露光装置｜液浸技術による193nmのArF光源での微細化
ArF液浸露光装置
半導体リソグラフィにおいて微細化を実現するためには、高い解像度と安定したプロセス制御が欠かせない。従来のドライ型プロセスでは、大気中（空気）の屈折率が約1.0であることがボトルネックとなり、限界解像度が物理的に制約...
工学 デジタル回路｜二進法で情報を制御する高電子技術
デジタル回路
デジタル回路とは、電圧の高低を0や1といった二進法の信号として扱い、情報を論理的に処理する電子回路である。パソコンやスマートフォン、家電製品の制御部には必ず搭載されており、半導体素子で構成される各種ロジックが膨大な演算や...
工学 露光装置｜半導体パターンを高精度形成する
露光装置
露光装置は半導体の製造工程でフォトリソグラフィを行う要となる装置である。シリコンウエハ上に感光材料を塗布し、光学系を用いてパターンを転写することで微細な回路を形成する。半導体集積回路の高性能化が進むほど、この露光プロセスの精...
工学 イオンミリング｜高エネルギービームが実現する精密表面加工
イオンミリング
イオンミリングは、高エネルギーのイオンビームを用いて試料表面を微細に加工・研磨する技術である。主に試料作製の最終工程で、機械研磨や化学エッチングなどでは達成できない高い平坦度や、酸化物層・汚染層などの除去が求められる場...
工学 半導体集積回路｜高密度実装で電子機器の基盤を形成
半導体集積回路
半導体集積回路とは、シリコンなどの半導体基板上に多数のトランジスタや抵抗、コンデンサなどの素子を微細加工技術により集積化した電子回路のことである。IC（Integrated Circuit）とも呼ばれ、コンピュータやス...
工学 シリコン基板｜半導体デバイスを支える高品質ウェハ素材
シリコン基板
シリコン基板とは、半導体デバイスの製造に用いられる結晶性ケイ素(Si)を薄くスライスしたウェハ状の基板である。現代のマイクロエレクトロニクス産業では欠かすことができない重要な素材であり、トランジスタや集積回路、パワーデバ...
工学 ゲート酸化膜｜微細デバイスを支える重要な絶縁層
ゲート酸化膜
ゲート酸化膜とは、MOSFET（Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor）などの半導体デバイスでゲート電極と半導体基板を絶縁するために形成される酸化膜のことである...
工学 メモリ素子｜デジタル機器の記憶を担う半導体
メモリ素子
メモリ素子とは、データを電気的に読み書きするために用いられる半導体デバイスのことであり、コンピュータやスマートフォンなど各種電子機器の心臓部を支える重要な部品である。プログラムや各種ファイルを一時的または永続的に保存し、必要に...