工学 シリコン素子｜シリコンを用いて作られた電子部品
シリコン素子
シリコン素子とは、半導体材料であるシリコン(Si)を用いて作られた電子部品の総称である。代表例としてはダイオード、トランジスタ、MOSFET、IGBTなどが挙げられる。これらの素子は電気の流れを制御・増幅する役割を担い、電子...
リソグラフィ
工学 工学 CD-SEM（臨界寸法計測SEM）｜先端微細寸法の要を担う計測技術
CD-SEM（臨界寸法計測SEM）
半導体の微細加工技術が進展するにつれ、ナノメートルオーダーの線幅やスペースを正確に計測する必要性が高まっている。その要となるのがCD-SEM(臨界寸法計測SEM)である。CDは“Critical Dim...
工学 電子銃｜高エネルギー電子ビームを制御し多彩な産業・学術応用を実現
電子銃とは
電子銃は、高真空下で電子を生成・加速し、制御された電子ビームを出力する装置である。陰極から放出された電子を電界や磁界の力で収束・加速することで、高エネルギーかつ高輝度なビームを得られる。テレビのブラウン管(CRT)や電子顕...
工学 半導体メモリ｜高密度で大量記憶を可能とする技術
半導体メモリ
半導体メモリとは、半導体材料を用いて情報を格納・読み出しする装置の総称である。コンピュータやスマートフォンなど、あらゆる電子機器の内部に搭載されており、システムの動作に不可欠な要素となっている。一般的なコンピュータでは中...
工学 レーザー｜高指向性と高エネルギー密度で先端技術を革新
レーザー
レーザーは誘導放出によって光を増幅し、狭いスペクトル幅や高い指向性を持つ光線を生成する装置である。マイメルによる初期の理論を基盤に1960年代に実用化されて以来、科学や産業、医療、通信など多彩な分野へ急速に普及した。従来の光...
工学 半導体製造｜高度な工程管理で高性能チップを生産
半導体製造
半導体製造とは、シリコンなどの半導体材料を用いて集積回路を形成し、多種多様な電子機器に搭載するためのプロセスである。高い精度と厳密な環境管理が求められ、リソグラフィやエッチング、薄膜形成など複数の工程を経て高性能なデバイス...
工学 EUVリソグラフィ｜極端紫外線を利用して精密な回路パターンを形成する
EUVリソグラフィ
EUVリソグラフィとは、半導体の微細加工に用いられるリソグラフィ技術の一種であり、極端紫外線を利用して精密な回路パターンを形成する手法である。従来の光リソグラフィに比べて回折限界が大幅に小さくなり、最新ノードの集積回路...
工学 交互位相配置型（AAPSM）｜マスク上の位相制御で解像度を高める
交互位相配置型（AAPSM）
交互位相配置型（AAPSM）は、リソグラフィ工程で使用されるフォトマスクの一種であり、隣り合う開口部の位相を交互に180°ずつずらして配置することで解像度向上を狙う手法である。フォトマスク上の透過部の位相を制...
工学 変形照明技術｜多角的制御で光学の限界に挑む
変形照明技術
複雑なパターンや構造物を高精度に照明するために考案された技術であり、観察や加工、露光など幅広い分野で活用されている。従来の均一な照射方法に比べて照明分布を自在に変形・制御できることが特徴であり、より高い解像度や均一性を実現す...
工学 フォトマスク｜微細回路を転写するための高精度原版
フォトマスク
フォトマスクは、半導体製造のリソグラフィ工程において、ウエハ上に回路パターンを転写するために使用される透明基板上のパターン原版である。ガラスや合成石英の基板に金属膜やクロム膜などで微細な回路形状を形成し、それを光学系を介して...